超高真空(UHV)是指压力低于10左右的真空状态−9mbar(或10－7Pa)。超高真空条件是许多表面分析技术的必要条件，如x射线光电子能谱(XPS)，俄歇电子能谱(AES)，二次离子质谱(SIMS)或场发射显微镜(FEM)。此外，对纯度有严格要求的薄膜生长和制备技术，如分子束外延(MBE)和原子层沉积(ALD)依赖于特高压条件。加速器的束线以及引力波探测器也在特高压条件下工作。这些真空度要求使用特殊的材料和泵浦原理。
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