超高真空（UHV）是一种真空状态，其特点是压力低于约10−9工商管理硕士（或10-7Pa)。超高真空条件是许多表面分析技术的必要条件，如x射线光电子能谱(XPS)，俄歇电子能谱(AES)，二次离子质谱(SIMS)或场发射显微镜(FEM)。此外，对纯度有严格要求的薄膜生长和制备技术，如分子束外延(MBE)和原子层沉积(ALD)依赖于特高压条件。加速器的束线以及引力波探测器也在特高压条件下工作。这些真空度要求使用特殊的材料和泵浦原理。
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