超真空(UHV)是Vakuumbereich, durch Drücke von weniger als 10－9mbar(奥得河10－7Pa) gekennzeichnet坚持。Für viele analytische Oberflächentechniken wie Röntgen-Photoelektronenspektroskopie (XPS)， auge - elektronenspektroskopie (AES)， Sekundärionen-Massenspektrometrie (SIMS) oder Feldemissionsmikroskopie (FEM) sind Ultrahochvakuumbedingungen erforderlich。Auch Dünnschichtwachstums- und Präparationstechniken mit hohen Anforderungen an die heit, wie molekularstrahlepittaxie (MBE) and Atomschichtabscheidung (ALD)， beruhen auf UHV-Bedingungen。Strahllinien von beschleungen sowie万有引力理论将被置于特高压下。这是我们的产品，也是我们的产品。
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