UNIVEX
盒涂料系统
我们的紧凑型盒涂层系统允许直接进入过程室。狗万取款标准a莱宝UNIVEX盒镀膜系统由其腔室大小决定。
- UNIVEX 250
- UNIVEX 400
- UNIVEX 600
- UNIVEX 900
UNIVEX 250
我们的紧凑型盒涂层系统允许直接进入过程室。狗万取款标准a莱宝UNIVEX盒涂层系统由其腔室大小决定。
由于它只有大约1.2米的低高度，它被理想地放置在工作台上。底物最大。外径220mm可涂覆。
系统控制器可使您分别运行手动、半自动涂布工序。
常见的应用程序:
- 接触金属化(金、银、铬、镍、钛等蒸发)
- 显微镜用对比成像(铟、碳等)
- 薄膜太阳能
典型的配置
- 多口袋电子束与热蒸发器
- 多达两个2“溅射枪在共聚焦配置溅射
UNIVEX 250 |
|
|---|---|
室的大小 |
宽度:270 mm深度:370 mm高度:400 mm |
热蒸发器 |
最多4种材料 |
有机式蒸发器 |
最多4种材料 |
电子束蒸发 |
多口袋或单口袋 |
溅射 |
上下2 × 2” |
共沉积 |
蒸发或溅射 |
负载锁定兼容 |
可选 |
水回火室 |
可选 |
真空度 |
10年中－7mbar |
洁净室兼容 |
是的 |
UNIVEX 400
UNIVEX 400是一种紧凑的涂层系统，用于实验室任务，分别试生产运行。由于它的腔室尺寸，它是理想的涂层小到中型的基材。
衬底/衬底支架的总直径最大。可涂覆350毫米。
系统控制器允许您运行手动，半自动和全自动涂层过程。
常见的应用程序
- 薄膜太阳能:CdTe、CIGS、CZTS溅射工艺
- 有机电子(PV, OLEDS)
- 光学涂层
- 微电子学
典型的配置
- 带热蒸发器和离子源的多口袋电子束。
- 多达4个2“溅射枪在共聚焦配置溅射向上或向下
- 无机-有机钙钛矿形成的电子束和有机蒸发器
UNIVEX 400 |
|
|---|---|
室的大小 |
宽度:420mm深度:480mm高度:550mm |
热蒸发器 |
多达8种材料 |
有机式蒸发器 |
多达8种材料 |
电子束蒸发 |
多口袋或单口袋 |
溅射 |
向上或向下，4 × 2”，3 × 3”，2 × 4”或其他 |
共沉积 |
蒸发或溅射 |
负载锁定兼容 |
可选 |
离子辅助淀积 |
可选 |
水回火室 |
是的 |
真空度 |
10年中－7mbar |
特高压版 |
可选 |
洁净室兼容 |
是的 |
UNIVEX 600
univex600是一种紧凑的实验室涂层系统，分别用于试生产。由于它的腔室大小，它适合中型到大型的基板尺寸。
可达到的基板产量满足小批量生产的一般要求。衬底/衬底支架最大。外径550mm可涂覆。
系统控制器允许您运行手动，半自动和全自动涂层过程。
常见的应用程序
- 光学涂层
- 光电设备
- 电阻随机存取存储器
- 高温超导体
典型的配置
- 衬底加热器和/或冷却器
- 带热蒸发器和离子源的多口袋电子束。
- 调色板，圆顶或行星基板配置为单一或多个样品
- 多喷枪共聚焦或面对面配置
UNIVEX 600 |
|
|---|---|
室的大小 |
宽度:600mm深度:600mm高度:800mm或550mm(溅射) |
热蒸发器 |
多达8种材料 |
有机式蒸发器 |
多达8种材料 |
电子束蒸发 |
多口袋和/或单口袋，多枪操作 |
溅射 |
向上或向下:4 × 3”，3 × 4”，6 × 2”或其他 |
共沉积 |
蒸发或溅射 |
负载锁定兼容 |
可选 |
离子辅助淀积 |
可选 |
水回火室 |
是的 |
真空度 |
10年中－7mbar |
特高压版 |
可选 |
洁净室兼容 |
是的 |
UNIVEX 900
UNIVEX 900是针对中到大基片尺寸的最复杂的解决方案，分别用于更高的基片吞吐量。基底/基底支架的总直径可达800毫米的涂层。系统控制器允许您运行手动，半自动和全自动涂层过程。
常见的应用程序
- 光学涂层
- 光电设备
- 电阻随机存取存储器
- 高温超导体
典型的配置
- 衬底加热器和/或冷却器
- 带离子源的多口袋电子束用于衬底预清洁和离子辅助沉积
- 调色板，圆顶或行星基板配置为单一或多个样品
- 多喷枪共聚焦或面对面配置
UNIVEX 900 |
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|---|---|
室的大小 |
宽度:900mm深度:900mm高度:1100mm |
热蒸发器 |
多达8种材料 |
有机式蒸发器 |
多达8种材料 |
电子束蒸发 |
多口袋和/或单口袋，多枪操作 |
溅射 |
可选 |
共沉积 |
是的 |
负载锁定兼容 |
可选 |
离子辅助淀积 |
可选 |
水回火室 |
是的 |
真空度 |
10年中－7mbar |
特高压版 |
可选 |
洁净室兼容 |
是的 |
